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    產品展示
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    磁控濺射真空鍍膜設備

    瀏覽:583    日期:2019-05-20

    詳細參數
     主要參數:
    真空室尺寸 ZCK-1200,ZCK-1400,ZCK-1600,ZCK-1800  
    真空系統 旋片泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵(或選分子泵、深冷泵正大彩票注册、深冷系統)
     
    極限真空 6×10-4Pa
    抽氣時間 空載大氣抽至5×10-3Pa正大彩票注册,>13min
    真空鍍膜設備的具體配置可根據客戶的鍍膜工藝要求進行量身設計及制作
     
    產品介紹:
          磁控濺射鍍膜機應用于塑料制品、陶瓷、樹脂正大彩票注册、水晶玻璃制品等正大彩票注册、工藝品正大彩票注册、塑料手機殼正大彩票注册、電子產品正大彩票注册、建材等行業。
    該系列設備主要是使用直流(或中頻)磁控濺射,可適應廣泛鍍膜靶材,如:銅正大彩票注册、鈦、鉻、不繡鋼、鎳等金屬材料正大彩票注册,
    可以利用濺射工藝進行鍍膜正大彩票注册,可提高膜層的附著力正大彩票注册、重復性、致密度、均勻度等特點。
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